現如今，信息技術加速迭代發展，電子芯片的發展成為了各界關注的焦點。隨著我國越來越多的產業生產離不開芯片，人們開始認識到芯片生產的重要性，而芯片的生產離不開超純水，今天我們就來介紹芯片生產需要的超純水是如何制備的。

　　據了解，一顆芯片要經過幾十道工藝技術，每一道工藝或許都是代表著科技水平，因此芯片在生產過程中對于用水水質的要求是非常高的，水中的雜質對芯片的影響非常大。而超純水是指電阻率達到18 MΩ·cm的水，這種水中除了水分子外，幾乎沒有什么雜質，可以滿足芯片生產用水需求。

　　那么，傳統的超純水制備工藝通常是采用離子交換樹脂進行制取，但采用離子交換樹脂通常需要定期進行樹脂再生，既耗費物力又浪費人工。目前，市面上主要采用的反滲透技術、EDI技術和拋光混床技術來制備超純水，該工藝與傳統工藝相比具有抗污染能力強、節能環保、產水水質穩定、脫鹽率高、系統內無死水等優勢。

　　使用上述工藝的超純水設備還具有良好的實用價值，可實現自動控制，從某種程度上而言，可以有效地達到我國電子級水質標準，具有自動化程度高，過程易實現自動控制，產水水質穩定等優勢。

　　綜上，隨著芯片研發技術的加快，我國要做的就是擺脫芯片進口依賴，加強相關產業的發展，為未來芯片技術的發展打好堅實的基礎。